京都电子KEM 高精密度自动电位滴定仪 AT-710S 运用于半导体用正胶显影液甲基氢氧化铵含量、碳酸根离子的检验

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T/CEMIA 030-2022 半导体用正胶显影液 - 四甲基氢氧化铵含量、碳酸根离子的检验

来源: | 来源:KEM China | 发布时间 :2024-06-21 | 240 次浏览: | 分享到:

京都电子KEM 高精密度自动电位滴定仪 AT-710S 运用于半导体用正胶显影液甲基氢氧化铵含量、碳酸根离子的检验

T/CEMIA 030-2022 半导体用正胶显影液

●范围
本标准规定了半导体用正胶显影液的术语和定义、缩略语、分类、要求、检验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存和安全。
本标准适用于半导体用正胶显影液，其主要组分为通过季铵盐化合物电解制得的四甲基氢氧化铵。

●术语和定义
本文件没有需要界定的术语和定义。

●缩略语
下列缩略语适用于本文件。
PFA：四氟乙烯—全氟烷氧基乙烯基醚共聚物，又称过氟烷基化物，可溶性聚四氟乙烯。

分类
按照四甲基氢氧化铵的含量进行分类，可分为c-a(四甲基氢氧化铵含量≥20.00%的半导体用正胶显影液)，c-b(四甲基氢氧化铵含量≤5%的半导体用正胶显影液)。

●要求
外观
无色透明液体。
主要化学成分
半导体用正胶显影液的主要化学成分应符合表1的规定。
表1.jpg

●色度
半导体用正胶显影液的色度应不大于5Hazen单位(Pt-Co色号)。
颗粒数
半导体用正胶显影液的颗粒数应符合表2的规定。
表2.jpg

●甲醇
半导体用正胶显影液的甲醇含量应符合表3的规定。
表3.jpg

●阴离子杂质含量
半导体用正胶显影液的阴离子杂质含量应符合表4的规定。
表4.jpg

●金属杂质含量
半导体用正胶显影液的金属杂质含量应符合表5的规定。
表5.jpg

表5续.jpg

●表面张力
c-b的表面张力指标管控可由供应商与客户协商决定。

●检验方法
四甲基氢氧化铵含量
按 SJ/T 11636 的规定进行。